اول ، هنگامی که لایه فیلم اکسید وضعیت نامناسب را با پودر یا خاکستری نشان می دهد ، ابتدا باید سعی کنیم ببینیم که آیا می توان آن را از بین برد. ما باید گرد و غبار ناشی از فرآیند بسته شدن و پودر ناشی از شوک الکتریکی را از بین ببریم.
ثانیا ، منابع خاکستر پودر اکسیده شده را یک به یک تجزیه و تحلیل کنید.
به طور کلی ، پوسته پوسته شدن لایه فیلم توسط نکات زیر ایجاد می شود:
1. دمای مخزن اکسیداسیون خیلی زیاد است.
2. غلظت اسید سولفوریک خیلی کم است.
3. محتوای یون آلومینیوم از 18 گرم در لیتر فراتر می رود. (افزایش سریع محتوای یون آلومینیوم اغلب در اثر دمای بالای مخزن اکسیداسیون و همچنین به دلیل عدم بازیابی موارد از دست رفته از مخزن اکسیداسیون به موقع ایجاد می شود.)
دمای مخزن اکسیداسیون خیلی زیاد است. آیا باید نتیجه بگیریم که تجهیزات تبرید به اندازه کافی بزرگ نیست؟ اگر ظرفیت خنک کننده معمول کافی باشد ، باید اندازه گردش آب سرد را در نظر بگیریم. آیا درجه حرارت بالا ناشی از انسداد در پمپ گردش خون است؟ بیایید هر یک از امکانات را یک به یک رد کنیم.
میزان اسید سولفوریک باید براساس مصرف روزانه اسید سولفوریک که از مخزن اکسیداسیون وارد و خارج شده است ، باشد و اسید سولفوریک باید به طور مرتب آزمایش و پر شود. زمان باید در محدوده فرآیند حفظ شود (180-220 گرم در لیتر بهینه است).
دمای الکترولیت تأثیر قابل توجهی در مقاومت سایش فیلم اکسیده شده دارد. به طور کلی ، اگر دما کاهش یابد ، مقاومت سایش فیلم اکسید آندی بر روی آلیاژهای آلومینیوم و آلومینیوم افزایش می یابد. این به دلیل کاهش میزان انحلال فیلم توسط الکترولیت است. برای دستیابی به سختی بیشتر فیلم اکسید ، باید در طی درمان سخت آنودایزاسیون ، دما را در محدوده 2 درجه ± حفظ کنیم.
